troubleshoot-separation
Über
Diese Fähigkeit diagnostiziert systematisch und löst GC- und HPLC-Trennprobleme. Sie hilft Entwicklern, Symptome zu dokumentieren, Ursachen für Peakform- und Retentionsanomalien zu identifizieren und Matrixeffekte zu bewerten. Nutzen Sie sie bei der Fehlerbehebung von Problemen wie schlechter Peakform, Auflösungsverlust oder Retentionszeitverschiebungen, indem Sie gezielte Korrekturen mit einem Ein-Variable-nach-dem-anderen-Ansatz umsetzen.
Schnellinstallation
Claude Code
Empfohlennpx skills add pjt222/agent-almanac -a claude-code/plugin add https://github.com/pjt222/agent-almanacgit clone https://github.com/pjt222/agent-almanac.git ~/.claude/skills/troubleshoot-separationKopieren Sie diesen Befehl und fügen Sie ihn in Claude Code ein, um diese Fähigkeit zu installieren
Dokumentation
排層析分離之疾
GC 與 HPLC 分離疾之系統診療:症之記、峰形之診、保留異常之究、基質效應之評、以一變即一試之法行修而驗。
用時
- 峰拖、前傾、分裂、或寬於所期
- 保留時偏移或不可重現
- 關鍵對之分辨已退
- 基線飄、鬼峰、或負峰現
- 靈敏降或信噪比劣
- 昔可之法今敗於系統適性
入
必要
- 問題層析圖:示疾之當前數據
- 參考層析圖:同法近期之良圖以資較
- 法之條件:柱、流動相/載氣、溫/梯、檢、流率
- 系統之記:近修、柱換、流動相備、儀事
可選
- 空白層析圖:最近之空白或溶劑注
- 系統適性趨勢:拖、辨、塔板、保留之歷值
- 柱之歷:注數、樣類、柱齡
- 儀修之記:泵封換、燈時、檢服日
法
第一步:記其疾
- 精述其症:何峰受影、與參考圖何異
- 定其始:漸退抑驟發
- 記其影所有峰抑特定者
- 記其於標、樣、抑兼之
- 聚當前系統適性數而較歷趨
- 攝或導出問題圖與參考並列
得:問題之述已成,含時、範(諸峰抑特峰、標抑樣)、與參考數之較。
敗則:無參考圖者,依所記之法注新標備以立當前基線而後排診。
第二步:診峰形之疾
以症表辨可能之根因。
| 症 | 可能之因 | 解 |
|---|---|---|
| 拖(T > 1.5) | 二次相互(矽醇活)、接頭死容、柱濾污、活位過載 | 加胺改質劑(HPLC)、襯管去活(GC)、換濾、修柱口、減注量 |
| 前傾(T < 0.8) | 柱過載(質或容)、樣溶劑與流動相強度不合 | 減注量或濃度、以弱溶劑稀釋、用大徑柱 |
| 分裂/雙峰 | 濾半堵、柱頭空、二多形、異構互轉 | 換濾、重填柱頭、驗樣穩、調 pH 鎖一形 |
| 峰寬(諸峰) | 柱外帶展、管徑誤、檢池大、柱老、塔板少 | 減柱後管之長與徑、察接、換柱 |
| 峰寬(早出) | 柱頭聚焦差、注溶劑過強(HPLC)、冷柱注(GC) | 用弱注溶劑、減注量、增初爐溫 |
| 峰寬(晚出) | 柱內擴散、溫過低(GC)、梯度不陡(HPLC) | 增終爐溫、陡梯、加有機洗 |
| 負峰 | 樣溶劑折射/吸收異於流動相、空位峰(IEX) | 樣溶劑與流動相合、用異波長 |
| 鬼峰 | 前注遺、流動相污、柱漏、隔漏(GC) | 注空白以驗、清或換注系、濾/脫流動相、換隔 |
| 基線飄(向上) | 柱漏(GC 高溫)、梯度洗脫之基線移(HPLC)、燈不穩(UV) | 降最高溫、用低漏柱(GC)、行空白梯以特徵之(HPLC)、換燈 |
| 基線噪(高頻) | 電干擾、泵脈、檢中氣泡、檢污 | 接地、換泵封、脫流動相、清檢池 |
- 合所察之症於上表
- 依疾影諸峰抑特峰、驟發抑漸退以縮因之列
- 依系統歷(近變、柱齡、修狀)排最可能之因
得:自症因映射識一二最可能之根因,依系統歷排序。
敗則:症不合表中任行,或多症並存者,疾或為複合(如柱退兼有漏)。先理最顯者,再評。
第三步:診保留時之疾
| 症 | 可能之因 | 解 |
|---|---|---|
| 諸峰皆早 | 流率增、柱溫高、流動相強、柱空 | 察流率設與實出、驗溫、重備流動相、察柱 |
| 諸峰皆晚 | 流率減、柱溫低、流動相弱、管半堵 | 察漏(壓降)、驗溫、重備流動相、察線濾 |
| 保留時飄(漸) | 柱退、流動相蒸發(開儲)、溫變 | 換柱、封儲、穩爐、用柱恆溫 |
| 保留時不重現 | 接頭漏、止回閥敗、自注時誤、平衡不足 | 壓試接、換止回閥、驗自注、增平衡量 |
| 失保留(k' 近 0) | 相塌(RP 高水)、柱去濕、流動相誤、接反 | 用極性嵌入或 AQ 型柱、以有機重濕、驗流動相、察管路 |
| 共出(昔已分) | 柱選擇性失(鍵相剝)、流動相組變、溫變 | 換柱、驗流動相備、察溫設與實 |
- 定保留偏為均(諸峰)抑選(特峰)
- 均偏指系統因(流、溫、流動相組)
- 選偏指柱化變或特分析物之疾
- 察儀壓跡:壓驟變指漏或堵
- 重注參考標以確疾在系抑在樣
得:保留異常之根因明,分為系統(儀/流動相)抑柱關。
敗則:以新柱注標而疾解者,原柱為疾。新柱仍疾者,因在上游(流動相、儀、或法之參)。
第四步:評基質效應
- 較標圖與樣圖:
- 樣中有標所無之峰乎?
- 特定保留窗中基線升或噪乎?
- 樣與標中分析物峰形異乎(更寬、拖更甚)?
- LC-MS:評離子抑/增:
- 柱後注入試:續注分析物而注空白基質提取液;分析物信凹處示離子抑區
- 分析物保留時與抑區合者,改法以移分析物洗脫
- 察柱污:
- 樣序後注溶劑空白;持峰示柱污
- 以強溶劑沖柱(RP 為 100% 有機,或依柱廠之囑)
- 評樣備:
- 注器污(自注針、GC 注口襯):換或清
- 樣清不足:加濾、SPE、或蛋白沉之步
- GC:察注襯中非揮發殘積,致久而拖、鬼峰
得:基質效應已特徵化(干擾物之有無、LC-MS 之離子抑區、柱污狀),有可行之囑。
敗則:以可得數不能足以特徵基質效應者,備基質匹配校曲與溶劑校曲較斜率。斜率差 > 15% 示重大基質效應,需法之改。
第五步:施修而驗
- 每次唯改一變。記何變何故。
- 每變後,重注系統適性標而較參考圖。
- 嘗試之序(自輕至重):
- 備新流動相 / 載氣瓶
- 換耗材(隔、襯、濾、線濾、燈)
- 緊或換接與管
- 沖/再生柱
- 調法之參(溫、流、梯、pH)
- 換柱
- 修儀(泵封、止回閥、檢)
- 修一既明,行全系統適性試(n >= 5 注)。
- 較諸參(保留時、面、辨、拖、塔板)於歷規。
- 記根因、修動、與驗果於儀/柱日記。
- 同疾再現者,立預修之程以本而治之。
得:疾解,系統適性參復規。根因、修動、與驗已記。
敗則:諸單變之改皆敗者,疾或涉多敗並存。盡換耗材與柱,以新標驗,自新基線重建排診。耗材盡換而疾仍存者,升至儀服。
驗
- 疾已記,含症述、時、範
- 根因依症因映射表識
- 排診中每次唯改一變
- 修以系統適性試驗(n >= 5 注)
- 諸系統適性參皆復至規內
- 根因與修動已記於日記
- 預修之策已定以免再發
陷
- 多變並改:不可辨真根因。常變一物、試之、再決變他物。
- 先換柱:柱換貴,且或掩真疾(如漏、流動相誤、注口污)。先盡簡因。
- 忽儀日記:諸疾多溯近修事、流動相批變、或柱換。常察近何變。
- 無證罪樣:先注參考標。標亦示疾者,疾在系,非在樣。
- 以不合溶劑沖柱:勿以純水沖逆相柱(致相塌),或以純水緩衝液沖矽 HILIC 柱(不可逆損)。依廠洗之程。
- 不記所試:敗之嘗試亦寶。記每變與其果,免重蹈敗解,且建機構之知。
參
interpret-chromatogram-- 解層析數,揭分離疾develop-gc-method-- GC 法之開,於排診需重設法時用之develop-hplc-method-- HPLC 法之開,於排診需重設法時用之validate-analytical-method-- 排診中重大法變之後,或需重驗
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