解層析圖

系統化解 GC 與 HPLC 層析圖，涵系統適用性之驗、峰之辨、積分、層析參數之算、峰質之評，以得可信之質量分析結果。

用時

• 報分析結果前，審層析數據
• 系統適用性試驗通過，乃啟樣品序列
• 以保留時間或光譜辨未知峰，或證已知分析物
• 排查異峰、基線異常、積分偽影
• 訓分析員於層析數據解讀

入

必要

• 層析圖數據：具時間軸與檢測器響應軸之數位或印本
• 參考標準數據：同法條件下，已知分析物之保留時間與響應
• 方法參數：色譜柱、流動相／載氣、溫度／梯度程式、檢測器設定

可選

• 光譜數據：UV-Vis 光譜（DAD）、質譜（MS）、或其他可證峰之光譜
• 往日層析圖：同法之歷史數據，以比趨勢
• 系統適用性準則：方法或法規之接受限
• 樣品製備細節：稀釋倍數、萃取回收率、內標濃度

法

第一步：驗系統適用性

解樣品數據之前，確層析系統之運行於規範內。

1. 尋系統適用性之注射（常為序列起首 5-6 次參考標準之重注）
2. 依上表算諸參數
3. 以算得之值比方法之接受準則
4. 若某參數敗，則系統不適用——問題未解，勿進樣品解讀
5. 諸系統適用性結果記於批次紀錄

**得：**諸系統適用性參數於規範內，證系統可用於此目的。

**敗則：**若保留時間 RSD 敗，察溫度不穩、流動相製備訛誤、或色譜柱老化。若拖尾因子敗，檢 GC 之進樣口襯管或 HPLC 之色譜柱篩板。若分離度敗，以專用試驗混合物察色譜柱性能，必要時更換。

第二步：辨峰

1. 比每峰之保留時間 (tR) 於參考標準層析圖
   • 可接受之 tR 匹配：於參考 tR 之 +/- 2% 內（短運行則 +/- 0.1 min）
2. 若辨識不明，以共注（加標）之法：參考標準加入樣品再注。目標峰當增而不展不肩
3. HPLC 備 DAD 者：比每峰之 UV-Vis 光譜於光譜庫
   • 光譜匹配指數 >= 990（滿 1000）乃可正識
   • 察峰內光譜純度（前、頂、尾光譜當疊合）
4. 系統備 MS 者：以參考光譜證分子離子 (m/z) 與關鍵碎片離子
5. 標不能辨之峰——以保留時間與相對響應報為「未知」

**得：**諸目標分析物以 tR 匹配辨之，有光譜則證之。未知峰以 tR 與面積標之。

**敗則：**若諸保留時間齊偏，則系統之變已生（色譜柱老化、溫度漂移、流動相訛誤）。重注參考標準以立當前 tR，再重評。

第三步：行峰積分

1. 擇積分模式：
   • 以數據系統預設自動積分為始
   • 唯自動積分明誤置基線或峰界時乃手動調整
2. 設積分參數：
   • 基線檢測靈敏度（斜率靈敏度／閾值）
   • 剔噪之最小峰面積或峰高
   • 峰寬參數配最窄預期峰
3. 驗基線之置：
   • 基線當於真層析基線連每峰之始終
   • 重疊峰者，依方法用谷對谷或垂直落下
   • 梯度方法者，基線或升——為升基線上之峰用切線撇除或指數撇除
4. 察積分訛誤：
   • 當一而分作二之裂峰
   • 當分而併入主峰之肩峰
   • 積為峰之噪尖
   • 貫峰之基線（負峰裁截）
5. 記終積分參數及手動調整，連同理由，入審計軌跡

**得：**諸目標峰積分基線置正確，無偽影，諸手動調整與理由有記。

**敗則：**若自動積分器屢誤某峰形，為彼保留時間窗建具自訂參數之定時事件積分法。勿為得所欲結果而手動調整——調整須有科學理由。

第四步：算層析參數

為諸報告峰算下者：

1. 分離度 (Rs) 於相鄰峰：
   • Rs = 2(tR2 - tR1) / (w1 + w2)
   • Rs >= 1.5 示基線分離；Rs >= 2.0 予常規用之裕度
2. 拖尾因子 (T) 於 5% 峰高：
   • T = W0.05 / (2f)
   • T = 1.0 乃完全對稱；T > 2.0 示顯著拖尾
3. 理論塔板 (N)：
   • 以基線寬：N = 16(tR / w)^2；以半高寬：N = 5.54(tR / w0.5)^2
   • N 高則柱效佳
4. 容量因子 (k')：
   • k' = (tR - t0) / t0，t0 乃死時間（空體積／流速）
   • 理想範圍：2-10，分離佳而運行時間合
5. 選擇性因子 (alpha) 於關鍵對：
   • alpha = k'2 / k'1
   • alpha > 1.05 常為足分之所需
6. 諸分析物列表，比方法規範

**得：**諸層析參數算、列、比接受準則。關鍵對之分離度與塔板數有記。

**敗則：**若算得塔板顯著低於色譜柱規範，或色譜柱已劣——以新標準試並比歷史數據。若參數於一序列內漂移，察儀器穩定性。

第五步：評峰質

1. 對稱：峰當為高斯或近高斯。顯著前伸 (T < 0.8) 暗色譜柱過載；拖尾 (T > 1.5) 暗二級作用或死體積
2. 基線分離：量化之工，關鍵對須基線分離。若峰間谷未返基線，記谷之百分比並評對準確度之影響
3. 峰寬一致：峰顯著寬於預期者（較標準），或示柱上降解、柱外帶展、或注射問題
4. 光譜純度（DAD/MS）：若純度指數示峰內光譜不均，疑共流出雜質。或調方法以得更佳分離
5. 負峰或基線擾動：UV 之負峰示樣品溶劑於檢測波長比流動相吸收更多——溶劑前緣為常，餘處為異
6. 幽峰：空白注射中現之峰示殘留、流動相污染、或柱流失。報樣品結果前辨其源
7. 總結層析品質，記報告結果之限制

**得：**諸目標分析物之峰質已評；諸異常（拖尾、共流出、幽峰）記其對數據質之潛在影響。

**敗則：**若有顯著品質問題（光譜純度證共流出，分析物保留時間處現幽峰），則數據或不可報。標記之，察根因，糾正後重運行。

驗

• 系統適用性參數已算並於規範內
• 諸目標分析物以 tR 辨之（配以光譜證之）
• 未知峰以 tR 與面積標之
• 積分基線置正確；手動調整有記
• 諸峰之分離度、拖尾、塔板、容量因子已算
• 峰質已評——無影響定量之未解共流出
• 經空白注射評幽峰與殘留
• 結果列表並比方法接受準則

陷

• 納自動積分而不審：數據系統或誤置基線，尤於肩峰、鄰大峰之小峰、梯度基線。每層析圖須目視審之
• 混 tR 偏移與新峰：齊偏（諸峰共動）示系統之變，非新化合。辨識之前重注標準以重校準
• 報噪下之峰：信噪比下於 3（檢出）或 10（定量）之峰不當辨不當量。對微量峰明算 S/N
• 忽溶劑前緣：空體積峰非分析物。確 t0 正識並除於分析物之報
• 手動積分以得目標結果：調整積分以令結果合規乃數據造假。諸積分之改須有科學理由並審計
• 略光譜純度之察：潔淨之峰或藏共流出雜質。DAD 或 MS 可得時，恆察峰純度

參

• develop-gc-method — 為此層析圖所出 GC 技術之方法開發
• develop-hplc-method — 為此層析圖所出 HPLC 技術之方法開發
• troubleshoot-separation — 診斷層析圖解讀時所辨之問
• validate-analytical-method — 生此層析數據之方法之正式驗證
• interpret-mass-spectrum — 為 GC-MS 與 LC-MS 峰之證，詳解 MS 數據