troubleshoot-separation
Acerca de
Esta habilidad diagnostica y resuelve sistemáticamente problemas de separación cromatográfica en sistemas GC y HPLC. Ayuda a los desarrolladores a documentar síntomas, identificar causas raíz de anomalías en la forma de los picos y la retención, y evaluar efectos de matriz. Úsela al solucionar problemas como colas de picos, tiempos de retención variables o pérdida de resolución, para implementar correcciones específicas utilizando un enfoque de una variable a la vez.
Instalación rápida
Claude Code
Recomendadonpx skills add pjt222/agent-almanac -a claude-code/plugin add https://github.com/pjt222/agent-almanacgit clone https://github.com/pjt222/agent-almanac.git ~/.claude/skills/troubleshoot-separationCopia y pega este comando en Claude Code para instalar esta habilidad
Documentación
排層析
系統診 GC、HPLC 分離疾。錄徵、診峰形、究保留異、評基質效、一變一試以驗修。
用
- 峰拖、前傾、裂、寬→用
- 保留時移或不可重現→用
- 鄰對解析降→用
- 基線漂、鬼峰、負峰→用
- 靈降或信噪降→用
- 前成法今敗系統適性→用
入
必
- 問題譜圖：今示疾數據
- 參考譜圖：同法近成譜圖以較
- 法況：柱、流動相/載氣、溫/梯度、檢、流量
- 系統錄：近養、柱換、相備、儀件
可
- 空白譜：近空或溶劑注
- 適性趨勢：拖、解析、塔板、保留之歷值
- 柱史：注次、樣型、柱齡
- 儀養錄：泵封換、燈時、檢養日
行
一：錄問
- 述徵精：何峰受、與參何異
- 定起：漸退或驟現
- 錄全峰受或特峰
- 錄於標、樣、二者
- 取今適性數，較歷趨
- 攝/出問題譜與參並列
得：問錄附時、範（全峰 vs 特峰、標 vs 樣）、較參。
敗：無參→於錄況新注標以建今基線乃排。
二：診峰形
按徵表辨因：
| 徵 | 因 | 解 |
|---|---|---|
| 拖（T > 1.5） | 二次作用（矽醇活性）、件死體積、柱頭污、過載 | 加胺改質（HPLC）、襯失活（GC）、換頭、修柱頭、減注量 |
| 前傾（T < 0.8） | 柱過載（量或體）、樣溶劑與相強不合 | 減注、稀於弱溶、用大徑柱 |
| 裂/雙峰 | 頭半塞、柱頭空、二異構、轉化 | 換頭、重填頭、驗樣穩、調 pH 鎖一形 |
| 寬（皆） | 柱外擴、管徑誤、檢池大、柱老、塔板少 | 減後柱管長徑、察接、換柱 |
| 寬（早出） | 柱頭聚差、注溶過強（HPLC）、冷上柱（GC） | 弱注溶、減注、增初溫 |
| 寬（晚出） | 柱內擴、溫低（GC）、梯度不陡（HPLC） | 升末溫、陡梯度、加有機洗 |
| 負峰 | 樣溶折射/吸與相異、空位峰（IEX） | 樣溶配相、用異波長 |
| 鬼峰 | 前注殘、相污、柱漏（GC）、隔漏（GC） | 注空驗、清/換注系、濾/脫氣相、換隔 |
| 基漂（升） | 柱漏（GC 高溫）、梯度移位（HPLC）、燈不穩（UV） | 降末溫、用低漏柱（GC）、行空梯度（HPLC）、換燈 |
| 基噪（高頻） | 電擾、泵搏、檢氣泡、檢污 | 接地、換泵封、脫氣、清檢池 |
- 配徵於上表
- 縮因表察全峰或特峰、驟現或漸退
- 按系統史排序最可能因（近改、柱齡、養況）
得：辨 1-2 最可能因，按史排。
敗：徵不合表行、或多徵並現→疾或複合（如柱衰加漏）。先解最顯、再評。
三：診保留異
| 徵 | 因 | 解 |
|---|---|---|
| 皆早移 | 流增、溫升、相強、柱空 | 察流設與實、驗溫、重備相、察柱 |
| 皆晚移 | 流減、溫降、相弱、管半塞 | 察漏（壓降）、驗溫、重備相、察線濾 |
| 保留漂（漸） | 柱衰、相蒸（敞器）、溫變 | 換柱、封器、穩爐、用柱恆溫 |
| 保留不重現 | 件漏、止閥誤、自取時誤、平衡不足 | 壓試件、換止閥、驗自取、增平衡量 |
| 失保留（k' 近 0） | 相崩（RP 高水）、柱去濕、相誤、接反 | 用極性嵌入或 AQ 柱、以有機重濕、驗相、察管 |
| 共出（前曾分） | 柱選性失（鍵相剝）、相成變、溫變 | 換柱、驗相備、察溫設與實 |
- 定保留移為均（皆峰）或選（特峰）
- 均移→系統因（流、溫、相成）
- 選移→柱化變或特物因
- 察儀壓跡：驟變示漏或塞
- 重注參標以辨疾於系或樣
得：保留異因辨，歸系統（儀/相）或柱因。
敗：新柱注標解→原柱為因。新柱仍存→因在上游（相、儀、法參）。
四：評基質效
- 較標譜與樣譜：
- 樣有標無之峰乎？
- 特保留窗基線升或噪乎？
- 物峰於樣與標形異乎（更寬、更拖）？
- LC-MS：評離子壓/增：
- 後柱注試：續注物，注空基質取液；物信凹處示壓區
- 物保留與壓區疊→改法移物出
- 察柱污：
- 樣序後注溶空；持峰示柱污
- 強溶沖柱（RP 用 100% 有機，或依柱廠建議）
- 評樣備：
- 注器污（自取針、GC 注襯）：換或清
- 樣淨不足：加濾、SPE、蛋白沉
- GC：察注襯非揮殘累，致拖與鬼峰漸生
得：基質效辨（干擾物有無、LC-MS 壓區、柱污況）附可行建。
敗：以有數不能辨→備基質配標曲與溶劑曲較斜率。斜差 > 15% 示顯效須改法。
五：施與驗修
- 一變一改、錄改與因
- 每改後重注適性標、較參譜
- 改序由輕至重：
- 備新相/載氣
- 換耗（隔、襯、頭、線濾、燈）
- 緊或換件管
- 沖/再生柱
- 調法參（溫、流、梯度、pH）
- 換柱
- 養儀（泵封、止閥、檢）
- 修辨後行全適性試（n >= 5 注）
- 較諸參（保留、面、解析、拖、塔板）於歷規
- 錄根因、修、驗於儀/柱錄
- 同疾復現→立預養程主動處因
得：問解、適性參復規。根因、修、驗皆錄。
敗：諸單變改皆敗→疾或多敗並存。同換諸耗與柱、新標驗、由新基線重診。仍敗→升儀養。
驗
- 問錄附徵述、時、範
- 用徵因表辨根因
- 排時一變一改
- 修以適性試驗（n >= 5 重複注）
- 諸適性參復規
- 根因與修錄於錄
- 預措辨明免復
忌
- 多變並改：致不能辨真因。一改、試、乃議下改
- 首換柱：柱換貴且或掩真疾（如漏、相誤、注污）。先盡簡因
- 忽儀錄：多疾溯近養、相批換、柱換。必察近何變
- 無據怪樣：先注標。標亦疾→疾在系，非樣
- 不合溶沖柱：勿以純水沖 RP 柱（致相崩）或純水緩沖 HILIC 矽柱（不可逆損）。從廠家洗程
- 不錄所試：敗試亦寶。錄諸改與果，免重失敗、建機構知
參
interpret-chromatogram-- 解譜以揭分疾develop-gc-method-- GC 法建，重設時關develop-hplc-method-- HPLC 法建，重設時關validate-analytical-method-- 排中重大改後或須再驗
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