search-prior-art
について
このスキルは、発明の新規性を評価するために、特許、学術論文、製品、オープンソースにわたる先行技術を検索します。特許性の評価、既存特許への異議申し立て、実施自由権(FTO)分析のサポート、または特許庁の審査通知への対応に使用されます。WebSearchやWebFetchなどのツールを活用して、関連する技術文献を収集します。
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ドキュメント
搜先有技術
行結構之先有技術之搜,以得早於某發明之載、利、產、揭。用以量可專利(此可專乎)、挑戰效力(此專宜授乎)、立自由運作(此設覆於既權乎)。
用時
- 申專利之前,量發明之新與非顯乃用
- 挑戰既專之效,得審察所失之先有技術乃用
- 為自由運作之析,得限阻專之先有技術乃用
- 書防衛之揭,阻他人專之乃用
- 應專利局之動,問新或非顯乃用
入
- 必要:發明之述(其為、其行、所解之患)
- 必要:搜之旨(可專、無效、FTO、防衛)
- 必要:關鍵之日(專申之日,或先有技術之發明日)
- 可選:已知之相關專或載
- 可選:技分類之碼(IPC、CPC)
- 可選:域之要發明者或公司
法
第一步:分發明為可搜之元
破發明為其技要素。
- 讀發明之述(或既專之申求項,若針既專而搜)
- 取要素——每獨之技特:
- 含何件?
- 程依何步?
- 達何技效?
- 解何患而何以解之?
- 識新合——別於既知之為何:
- 新元加既知之元乎?
- 既知之元之新合乎?
- 既知之元用於新域乎?
- 為各元生搜辭:
- 技辭、同義、縮寫
- 廣與狹之辭(層)
- 同念之異述
- 書搜圖:元、辭、關
Search Map Example:
+------------------+-----------------------------------+-----------+
| Element | Search Terms | Priority |
+------------------+-----------------------------------+-----------+
| Attention layer | attention mechanism, self- | High |
| | attention, multi-head attention | |
| Sparse routing | mixture of experts, sparse MoE, | High |
| | top-k routing, expert selection | |
| Training method | knowledge distillation, teacher- | Medium |
| | student, progressive training | |
+------------------+-----------------------------------+-----------+
得:完備之分,每元皆有搜辭。新合已識——此乃搜必得(以無效)或必確其無(以支新)者。
敗則:發明過抽不可分,求更具體之述。求項不明,專於各求項元最廣之合理解。
第二步:搜專利之載
於專利庫系統而搜。
-
構合元辭之查:
- 先各元獨搜(廣)
- 後合元以得近之技術(狹)
- 用分類碼濾以技域
-
搜諸庫:
- Google Patents:宜全文搜,免費,大集
- USPTO PatFT/AppFT:美專與申,官源
- Espacenet:歐專,分類搜佳
- WIPO Patentscope:PCT 申,全球之覆
-
施日之濾:
- 先有技術必早於關鍵之日(申日或優先日)
- 含申前一年之載(寬限期依司法異)
-
各相關之果皆錄:
- 文號、題、申日、公開日
- 揭何元(映於搜圖)
- 是否揭新合
-
依相關分果:
- X 引:獨揭發明(先有預料)
- Y 引:揭要元,可與他引合(顯而易見)
- A 引:背景之技,定一般技態
得:分類之專引列,映於發明之元。X 引(若得)為新之絕殺。Y 引為顯而易見之積木。
敗則:未得相關專引,非謂發明為新——非專之載(第三步)或藏關鍵之引。一庫之闕非處處之闕。
第三步:搜非專之載
搜學術之文、產、開源、與他非專之揭。
-
學術之載:
- Google Scholar、arXiv、IEEE Xplore、ACM Digital Library
- 用第一步之同辭搜
- 會議文與工作坊集常早於專申
-
產與商揭:
- 產文檔、用戶手冊、營銷之物
- Internet Archive(Wayback Machine)為日驗之網內容
- 業之刊與新聞
-
開源與碼:
- GitHub、GitLab——搜技特之施
- README、文檔、提交史為日證
- 軟之發附版日
-
標準與規格:
- IEEE、IETF(RFCs)、W3C、ISO 標準
- 標準必揭之專;搜標準體之 IP 庫
-
防衛之揭:
- IBM Technical Disclosure Bulletin
- Research Disclosure 刊
- IP.com Prior Art Database
-
各果皆驗公開之日早於關鍵之日:
- 網頁:用 Wayback Machine 為日證
- 軟:用發版之日或提交之戳
- 文:用公開之日,非提交之日
得:非專引補專搜。學文與開源碼常為最強之先有技術,其述技詳於專。
敗則:非專之載稀,技或多發於企業 R&D(專重)。重專之載而專於合而顯之論。
第四步:析而映諸果
量所得先有技術與發明之關。
- 立求項表映先有技術於發明之元:
Claim Element vs. Prior Art Matrix:
+------------------+--------+--------+--------+--------+
| Element | Ref #1 | Ref #2 | Ref #3 | Ref #4 |
+------------------+--------+--------+--------+--------+
| Element A | X | X | | X |
| Element B | | X | X | |
| Element C | X | | X | |
| Novel combo A+B+C| | | | |
+------------------+--------+--------+--------+--------+
X = element disclosed in this reference
-
量新:單引揭諸元乎?
- 若是 → 發明已被預料(非新)
- 若否 → 發明或新(進至顯而易見)
-
量顯而易見:少數引(2-3)合可覆諸元乎?
- 有合之動機乎?(熟者見合之由乎?)
- 引示反合乎?(示其不行乎?)
-
FTO 搜:先有技術窄阻專之求項乎?
- 與阻專之求項疊之先有技術限其可執之範
-
明書析,引特之段
得:明之求項表,示諸元為何引所覆,附新與顯而易見之量。各映引特之段或圖。
敗則:求項表示闕(諸元無一引含),此闕乃潛新處。後續搜專於此具體之闕。
第五步:書與交
裝搜果為其用。
-
書 Prior Art Search Report:
- 搜之旨與範
- 搜之法(庫、查、日範)
- 果摘(引數、分類分布)
- 要引附詳析(求項表)
- 量:新、顯而易見、FTO 之意
- 限與後續搜之議
-
整引:
- 依相關排(X 在前,Y 次之,A 末)
- 各引附全書誌與訪鏈
- 要段標或取出
-
依搜旨議:
- 可專:申/不申,依先有技術之闕議求項之範
- 無效:諸引最強之合,議法之論
- FTO:險之等、設計繞過之機、許可之考
- 防衛:依得空白之地,是否發為防揭
得:完備整之搜報,直支所欲之決。引可訪,析可循。
敗則:搜未決(無強 X 或 Y 引,唯有相關背景),明書其結:「無預料之技術;最近之技術述元 A 與 B 而非 C。議申以重 C 為求項。」未決亦為合而有用之果。
驗
- 發明已分為別之可搜元
- 新合已明識
- 專庫已搜(至少二庫)
- 非專之載已搜(學+產+開源)
- 諸引皆早於關鍵之日(日已驗)
- 求項表映元於引附段引
- 新與顯而易見已量附由
- 果分類依相關(X、Y、A 引)
- 報含法、限、與議
- 搜可重(查與庫已書)
陷
- 關鍵詞之窄視:唯精合搜失同義與異述。用第一步之辭層
- 唯專之搜:非專之載(文、產、碼)常明於專。勿略第三步
- 日之忽:先有技術必早於關鍵之日。申日後一日之佳引,無用
- 忽外語之技術:要發明或先現於中、日、韓、德之專載。機譯使可搜
- 確認之偏:搜以確新而非搜以得無效之技術。最佳之搜竭力得最近之技術
- 過早止:首數果罕為最佳。依早果所示之域辭,反復搜之
參
assess-ip-landscape— 寬之景繪,置具體先有技術搜於其中screen-trademark— 商標衝之篩(異庫、異法框)file-trademark— 篩成後之申程序review-research— 文獻審法多疊於先有技術搜security-audit-codebase— 系搜法之並行(全、書、可重)
GitHub リポジトリ
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