troubleshoot-separation

pjt222

更新日 5 days ago

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ドキュメントword

について

このスキルは、GCおよびHPLCシステムにおけるクロマトグラフィー分離の問題を体系的に診断・解決します。開発者が症状を記録し、ピーク形状や保持時間の問題の根本原因を特定し、マトリックス効果を評価することを支援します。メソッドのトラブルシューティング時には、管理された単一変数調整アプローチを用いて、的確な修正を実施するためにご活用ください。

クイックインストール

Claude Code

推奨

メイン

npx skills add pjt222/agent-almanac -a claude-code

プラグインコマンド代替

/plugin add https://github.com/pjt222/agent-almanac

Git クローン代替

git clone https://github.com/pjt222/agent-almanac.git ~/.claude/skills/troubleshoot-separation

このコマンドをClaude Codeにコピー＆ペーストしてスキルをインストールします

ドキュメント

排查層析分離

GC 與 HPLC 分離問題之系統化診斷與解決，涵蓋症狀記錄、峰型診斷、滯留異常調查、基質效應評估及以受控單變數變更驗證之修正措施。

適用時機

峰拖尾、峰前傾、分裂或寬於預期
滯留時間偏移或不可重現
關鍵對之解析度劣化
基線漂移、鬼峰或負峰出現
靈敏度下降或信噪比劣化
先前可用之方法今未能通過系統適用性

輸入

必要

問題層析圖：顯示問題之當前資料
參考層析圖：同方法近期良好之層析圖以供比對
方法條件：色譜柱、流動相/載氣、溫度/梯度、檢測器、流速
系統日誌：近期維護、色譜柱更換、流動相配製、儀器事件

選擇性

空白層析圖：最近一次空白或溶劑進樣
系統適用性趨勢資料：拖尾、解析度、塔板、滯留時間之歷史值
色譜柱歷史：進樣次數、樣品類型、柱齡
儀器維護日誌：泵密封更換、燈使用時數、檢測器服務日期

步驟

步驟一：記錄問題

精確描述症狀：哪些峰受影響、與參考層析圖差異為何
判定問題何時開始：漸進劣化抑或突發
記錄問題影響所有峰抑或僅特定峰
註明問題出現於標準品、樣品或兩者
收集當前系統適用性資料並與歷史趨勢比對
拍攝或匯出問題層析圖與參考圖並列以供比對

預期： 已記錄之問題陳述,含時間軸、範圍（所有峰對特定峰、標準品對樣品）及與參考資料之比對。

失敗時： 若無參考層析圖,於記錄之方法條件下注入新配製之標準品,於排查前建立當前基線。

步驟二：診斷峰型問題

用症狀表辨識可能之根因。

症狀	可能原因	解決方案
拖尾（T > 1.5）	二次相互作用（矽烷醇活性）、接頭死體積、柱頭篩板污染、活性位過載	加胺改質劑（HPLC）、襯管去活化（GC）、更換篩板、修剪柱入口、降低進樣質量
前傾（T < 0.8）	柱過載（質量或體積）、樣品溶劑與流動相強度不匹配	降低進樣體積或濃度、以較弱溶劑稀釋、用較大孔徑柱
分裂/雙峰	篩板部分阻塞、柱頭空隙、兩種多晶型、異構互轉	更換篩板、重填柱頭、驗證樣品穩定性、調 pH 鎖定一形式
寬峰（全部）	柱外帶寬增、管徑錯、檢測器池過大、舊柱、塔板數低	縮短柱後管長與內徑、檢查接頭、更換柱
寬峰（早洗脫）	柱頭聚焦差、進樣溶劑過強（HPLC）、冷柱上（GC）	用較弱進樣溶劑、降低進樣體積、提升初始爐溫
寬峰（晚洗脫）	柱上擴散、溫度過低（GC）、梯度陡度不足（HPLC）	提升最終爐溫、加陡梯度、加有機沖洗
負峰	樣品溶劑折射率/吸光度與流動相不同、空缺峰（IEX）	樣品溶劑與流動相匹配、用不同檢測波長
鬼峰	前次進樣殘留、流動相污染、柱流失、隔墊流失（GC）	跑空白確認、清潔或更換進樣系統、過濾/脫氣流動相、更換隔墊
基線漂移（向上）	柱流失（GC 高溫）、梯度洗脫基線偏移（HPLC）、燈不穩（UV）	降低最高溫、用低流失柱（GC）、跑空白梯度以表徵（HPLC）、更換燈
基線雜訊（高頻）	電氣干擾、泵脈動、檢測器中之氣泡、檢測器污染	接地儀器、更換泵密封、脫氣流動相、清潔檢測器池

將觀察到之症狀對應至上表
依問題影響所有峰或特定峰、突然出現或漸進,縮減原因清單
依系統歷史（近期變更、柱齡、維護狀態）排序最可能之原因

預期： 由症狀-原因對應辨識出一兩個最可能之根因,並依系統歷史排序。

失敗時： 若症狀不合表中任何列,或同時有多種症狀,問題可能為複合（如柱降解加洩漏）。先處理最明顯之問題,再重評估。

步驟三：診斷滯留時間問題

症狀	可能原因	解決方案
所有峰提早	流速增、柱溫升、流動相增強、柱空隙	檢查流速設定與實際輸送、驗證溫度、重配流動相、檢查柱
所有峰延後	流速降、柱溫低、流動相減弱、管部分阻塞	查洩漏（壓降）、驗證溫度、重配流動相、檢查管線過濾器
滯留時間漂移（漸進）	柱降解、流動相蒸發（開放儲槽）、溫度波動	更換柱、密封儲槽、穩定爐溫、用柱恆溫器
滯留時間不可重現	接頭洩漏、單向閥失效、自動進樣器計時錯、平衡不足	接頭壓力測試、更換單向閥、驗證自動進樣器、增加平衡體積
失去滯留（k' 近 0）	相塌陷（RP 高水相）、柱去濕、流動相錯、接管反轉	用極性嵌入或 AQ 型柱、以有機重新潤濕柱、驗證流動相、檢查管路
共洗脫（先前已分離）	柱選擇性喪失（鍵合相剝離）、流動相組成變化、溫度變化	更換柱、驗證流動相配製、檢查溫度設定點與實際值

判定滯留偏移為均勻（所有峰）抑或選擇性（特定峰）
均勻偏移指向系統性原因（流速、溫度、流動相組成）
選擇性偏移指向柱化學變化或特定分析物相關問題
檢查儀器壓力曲線：壓力突變指示洩漏或阻塞
重新進注參考標準品,確認問題在系統或樣品

預期： 滯留異常之根因已辨識,並分類為系統性（儀器/流動相）或柱相關。

失敗時： 若於新柱重新進注標準品解決問題,則原柱為問題所在。若新柱仍存在,原因在上游（流動相、儀器或方法參數）。

步驟四：評估基質效應

比對標準品層析圖與樣品層析圖：
- 樣品中是否有標準品中無之額外峰？
- 特定滯留窗內基線是否升高或有雜訊？
- 樣品與標準品中分析物峰型是否不同（更寬、更拖尾）？
對 LC-MS：評估離子抑制/增強：
- 柱後輸注測試：注空白基質萃取液同時持續輸注分析物；分析物信號之低凹指示離子抑制區
- 若分析物滯留時間與抑制區重疊,修改方法以使分析物洗脫時間偏移
檢查柱污染：
- 樣品序列後注溶劑空白；持續存在之峰指示柱污染
- 以強溶劑沖洗柱（RP 用 100% 有機,或依柱製造商建議）
評估樣品製備：
- 髒污進樣器（自動進樣器針、GC 進樣口襯管）：更換或清潔
- 樣品淨化不足：增加過濾、SPE 或蛋白沉澱步驟
對 GC：檢查進樣口襯管中非揮發性殘留累積,長期會致峰拖尾與鬼峰

預期： 基質效應已表徵（干擾物有無、LC-MS 之離子抑制區、柱污染狀態）並有可行建議。

失敗時： 若以可用資料無法充分表徵基質效應,配製基質匹配校正曲線並與溶劑校正曲線之斜率比較。斜率差異 > 15% 指示有顯著基質效應,需修改方法。

步驟五：實施並驗證修復

一次只變一個變數。記錄變了什麼及為何
每次變更後,重新進注系統適用性標準品並與參考層析圖比較
嘗試之變更順序（從最少干擾至最大）：
- 配製新流動相/載氣鋼瓶
- 更換消耗品（隔墊、襯管、篩板、管線過濾器、燈）
- 拉緊或更換接頭與管路
- 沖洗/再生柱
- 調整方法參數（溫度、流速、梯度、pH）
- 更換柱
- 維修儀器（泵密封、單向閥、檢測器）
一旦找出修復,跑完整系統適用性測試（n >= 5 次進樣）
將所有參數（滯留時間、面積、解析度、拖尾、塔板）與歷史規範比對
將根因、修正措施與驗證結果記錄於儀器/柱日誌
若同問題復發,建立預防性維護計畫以主動處理根因

預期： 問題已解決,系統適用性參數恢復至規範。根因、修正措施與驗證已記錄。

失敗時： 若所有單變數變更皆無法解決問題,可能涉及多個同時失效。一次更換所有消耗品與柱,以新標準品驗證,並從新基線重建排查。若全消耗品更換後問題仍存,升級至儀器服務。

驗證

問題已記錄,含症狀描述、時間軸與範圍
已用症狀-原因對應表辨識根因
排查過程一次只變一個變數
修復已以系統適用性測試驗證（n >= 5 次重複進樣）
所有系統適用性參數恢復至規範內
根因與修正措施已記錄於日誌
已辨識預防措施以避免復發

常見陷阱

同時變更多個變數：致無法辨識實際根因。永遠變一處,測試,再決定是否變另一處
以更換柱為首步：柱更換昂貴,且可能掩蓋真實問題（如洩漏、流動相錯、進樣口污染）。先窮盡較簡單之可能性
忽略儀器日誌：許多問題可追溯至近期之維護事件、流動相批次更換或換柱。永遠檢查近期變了什麼
無證據而怪罪樣品：先跑參考標準品。若標準品亦顯問題,則問題在系統而非樣品
以不相容溶劑沖洗柱：切勿以純水沖洗反相柱（致相塌陷）或以純水緩衝液沖洗矽 HILIC 柱（不可逆損傷）。遵循製造商之沖洗程序
不記錄已嘗試之事：失敗之排查嘗試為寶貴資訊。記錄每次嘗試之變更及其結果,以避免重複失敗修復並建立組織知識

GitHub リポジトリ

pjt222/agent-almanac

パス: i18n/wenyan-lite/skills/troubleshoot-separation

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