排層析

系統診 GC、HPLC 分離疾。錄徵、診峰形、究保留異、評基質效、一變一試以驗修。

用

• 峰拖、前傾、裂、寬→用
• 保留時移或不可重現→用
• 鄰對解析降→用
• 基線漂、鬼峰、負峰→用
• 靈降或信噪降→用
• 前成法今敗系統適性→用

入

必

• 問題譜圖：今示疾數據
• 參考譜圖：同法近成譜圖以較
• 法況：柱、流動相/載氣、溫/梯度、檢、流量
• 系統錄：近養、柱換、相備、儀件

可

• 空白譜：近空或溶劑注
• 適性趨勢：拖、解析、塔板、保留之歷值
• 柱史：注次、樣型、柱齡
• 儀養錄：泵封換、燈時、檢養日

行

一：錄問

1. 述徵精：何峰受、與參何異
2. 定起：漸退或驟現
3. 錄全峰受或特峰
4. 錄於標、樣、二者
5. 取今適性數，較歷趨
6. 攝/出問題譜與參並列

得：問錄附時、範（全峰 vs 特峰、標 vs 樣）、較參。

敗：無參→於錄況新注標以建今基線乃排。

二：診峰形

按徵表辨因：

1. 配徵於上表
2. 縮因表察全峰或特峰、驟現或漸退
3. 按系統史排序最可能因（近改、柱齡、養況）

得：辨 1-2 最可能因，按史排。

敗：徵不合表行、或多徵並現→疾或複合（如柱衰加漏）。先解最顯、再評。

三：診保留異

1. 定保留移為均（皆峰）或選（特峰）
2. 均移→系統因（流、溫、相成）
3. 選移→柱化變或特物因
4. 察儀壓跡：驟變示漏或塞
5. 重注參標以辨疾於系或樣

得：保留異因辨，歸系統（儀/相）或柱因。

敗：新柱注標解→原柱為因。新柱仍存→因在上游（相、儀、法參）。

四：評基質效

1. 較標譜與樣譜：
   • 樣有標無之峰乎？
   • 特保留窗基線升或噪乎？
   • 物峰於樣與標形異乎（更寬、更拖）？
2. LC-MS：評離子壓/增：
   • 後柱注試：續注物，注空基質取液；物信凹處示壓區
   • 物保留與壓區疊→改法移物出
3. 察柱污：
   • 樣序後注溶空；持峰示柱污
   • 強溶沖柱（RP 用 100% 有機，或依柱廠建議）
4. 評樣備：
   • 注器污（自取針、GC 注襯）：換或清
   • 樣淨不足：加濾、SPE、蛋白沉
5. GC：察注襯非揮殘累，致拖與鬼峰漸生

得：基質效辨（干擾物有無、LC-MS 壓區、柱污況）附可行建。

敗：以有數不能辨→備基質配標曲與溶劑曲較斜率。斜差 > 15% 示顯效須改法。

五：施與驗修

1. 一變一改、錄改與因
2. 每改後重注適性標、較參譜
3. 改序由輕至重：
   • 備新相/載氣
   • 換耗（隔、襯、頭、線濾、燈）
   • 緊或換件管
   • 沖/再生柱
   • 調法參（溫、流、梯度、pH）
   • 換柱
   • 養儀（泵封、止閥、檢）
4. 修辨後行全適性試（n >= 5 注）
5. 較諸參（保留、面、解析、拖、塔板）於歷規
6. 錄根因、修、驗於儀/柱錄
7. 同疾復現→立預養程主動處因

得：問解、適性參復規。根因、修、驗皆錄。

敗：諸單變改皆敗→疾或多敗並存。同換諸耗與柱、新標驗、由新基線重診。仍敗→升儀養。

驗

• 問錄附徵述、時、範
• 用徵因表辨根因
• 排時一變一改
• 修以適性試驗（n >= 5 重複注）
• 諸適性參復規
• 根因與修錄於錄
• 預措辨明免復

忌

• 多變並改：致不能辨真因。一改、試、乃議下改
• 首換柱：柱換貴且或掩真疾（如漏、相誤、注污）。先盡簡因
• 忽儀錄：多疾溯近養、相批換、柱換。必察近何變
• 無據怪樣：先注標。標亦疾→疾在系，非樣
• 不合溶沖柱：勿以純水沖 RP 柱（致相崩）或純水緩沖 HILIC 矽柱（不可逆損）。從廠家洗程
• 不錄所試：敗試亦寶。錄諸改與果，免重失敗、建機構知

參

• interpret-chromatogram -- 解譜以揭分疾
• develop-gc-method -- GC 法建，重設時關
• develop-hplc-method -- HPLC 法建，重設時關
• validate-analytical-method -- 排中重大改後或須再驗