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troubleshoot-separation

pjt222
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关于

This skill systematically diagnoses and resolves GC and HPLC chromatographic separation issues. It helps developers document symptoms, identify root causes for peak shape and retention anomalies, and evaluate matrix effects. Use it when troubleshooting problems like poor peak shape, resolution loss, or retention time shifts by implementing targeted fixes with a one-variable-at-a-time approach.

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/plugin add https://github.com/pjt222/agent-almanac
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技能文档

排層析分離之疾

GC 與 HPLC 分離疾之系統診療:症之記、峰形之診、保留異常之究、基質效應之評、以一變即一試之法行修而驗。

用時

  • 峰拖、前傾、分裂、或寬於所期
  • 保留時偏移或不可重現
  • 關鍵對之分辨已退
  • 基線飄、鬼峰、或負峰現
  • 靈敏降或信噪比劣
  • 昔可之法今敗於系統適性

必要

  • 問題層析圖:示疾之當前數據
  • 參考層析圖:同法近期之良圖以資較
  • 法之條件:柱、流動相/載氣、溫/梯、檢、流率
  • 系統之記:近修、柱換、流動相備、儀事

可選

  • 空白層析圖:最近之空白或溶劑注
  • 系統適性趨勢:拖、辨、塔板、保留之歷值
  • 柱之歷:注數、樣類、柱齡
  • 儀修之記:泵封換、燈時、檢服日

第一步:記其疾

  1. 精述其症:何峰受影、與參考圖何異
  2. 定其始:漸退抑驟發
  3. 記其影所有峰抑特定者
  4. 記其於標、樣、抑兼之
  5. 聚當前系統適性數而較歷趨
  6. 攝或導出問題圖與參考並列

得:問題之述已成,含時、範(諸峰抑特峰、標抑樣)、與參考數之較。

敗則:無參考圖者,依所記之法注新標備以立當前基線而後排診。

第二步:診峰形之疾

以症表辨可能之根因。

可能之因
(T > 1.5)二次相互(矽醇活)、接頭死容、柱濾污、活位過載加胺改質劑(HPLC)、襯管去活(GC)、換濾、修柱口、減注量
前傾(T < 0.8)柱過載(質或容)、樣溶劑與流動相強度不合減注量或濃度、以弱溶劑稀釋、用大徑柱
分裂/雙峰濾半堵、柱頭空、二多形、異構互轉換濾、重填柱頭、驗樣穩、調 pH 鎖一形
峰寬(諸峰)柱外帶展、管徑誤、檢池大、柱老、塔板少減柱後管之長與徑、察接、換柱
峰寬(早出)柱頭聚焦差、注溶劑過強(HPLC)、冷柱注(GC)用弱注溶劑、減注量、增初爐溫
峰寬(晚出)柱內擴散、溫過低(GC)、梯度不陡(HPLC)增終爐溫、陡梯、加有機洗
負峰樣溶劑折射/吸收異於流動相、空位峰(IEX)樣溶劑與流動相合、用異波長
鬼峰前注遺、流動相污、柱漏、隔漏(GC)注空白以驗、清或換注系、濾/脫流動相、換隔
基線飄(向上)柱漏(GC 高溫)、梯度洗脫之基線移(HPLC)、燈不穩(UV)降最高溫、用低漏柱(GC)、行空白梯以特徵之(HPLC)、換燈
基線噪(高頻)電干擾、泵脈、檢中氣泡、檢污接地、換泵封、脫流動相、清檢池
  1. 合所察之症於上表
  2. 依疾影諸峰抑特峰、驟發抑漸退以縮因之列
  3. 依系統歷(近變、柱齡、修狀)排最可能之因

得:自症因映射識一二最可能之根因,依系統歷排序。

敗則:症不合表中任行,或多症並存者,疾或為複合(如柱退兼有漏)。先理最顯者,再評。

第三步:診保留時之疾

可能之因
諸峰皆早流率增、柱溫高、流動相強、柱空察流率設與實出、驗溫、重備流動相、察柱
諸峰皆晚流率減、柱溫低、流動相弱、管半堵察漏(壓降)、驗溫、重備流動相、察線濾
保留時飄(漸)柱退、流動相蒸發(開儲)、溫變換柱、封儲、穩爐、用柱恆溫
保留時不重現接頭漏、止回閥敗、自注時誤、平衡不足壓試接、換止回閥、驗自注、增平衡量
失保留(k' 近 0)相塌(RP 高水)、柱去濕、流動相誤、接反用極性嵌入或 AQ 型柱、以有機重濕、驗流動相、察管路
共出(昔已分)柱選擇性失(鍵相剝)、流動相組變、溫變換柱、驗流動相備、察溫設與實
  1. 定保留偏為均(諸峰)抑選(特峰)
  2. 均偏指系統因(流、溫、流動相組)
  3. 選偏指柱化變或特分析物之疾
  4. 察儀壓跡:壓驟變指漏或堵
  5. 重注參考標以確疾在系抑在樣

得:保留異常之根因明,分為系統(儀/流動相)抑柱關。

敗則:以新柱注標而疾解者,原柱為疾。新柱仍疾者,因在上游(流動相、儀、或法之參)。

第四步:評基質效應

  1. 較標圖與樣圖:
    • 樣中有標所無之峰乎?
    • 特定保留窗中基線升或噪乎?
    • 樣與標中分析物峰形異乎(更寬、拖更甚)?
  2. LC-MS:評離子抑/增:
    • 柱後注入試:續注分析物而注空白基質提取液;分析物信凹處示離子抑區
    • 分析物保留時與抑區合者,改法以移分析物洗脫
  3. 察柱污:
    • 樣序後注溶劑空白;持峰示柱污
    • 以強溶劑沖柱(RP 為 100% 有機,或依柱廠之囑)
  4. 評樣備:
    • 注器污(自注針、GC 注口襯):換或清
    • 樣清不足:加濾、SPE、或蛋白沉之步
  5. GC:察注襯中非揮發殘積,致久而拖、鬼峰

得:基質效應已特徵化(干擾物之有無、LC-MS 之離子抑區、柱污狀),有可行之囑。

敗則:以可得數不能足以特徵基質效應者,備基質匹配校曲與溶劑校曲較斜率。斜率差 > 15% 示重大基質效應,需法之改。

第五步:施修而驗

  1. 每次唯改一變。記何變何故。
  2. 每變後,重注系統適性標而較參考圖。
  3. 嘗試之序(自輕至重):
    • 備新流動相 / 載氣瓶
    • 換耗材(隔、襯、濾、線濾、燈)
    • 緊或換接與管
    • 沖/再生柱
    • 調法之參(溫、流、梯、pH)
    • 換柱
    • 修儀(泵封、止回閥、檢)
  4. 修一既明,行全系統適性試(n >= 5 注)。
  5. 較諸參(保留時、面、辨、拖、塔板)於歷規。
  6. 記根因、修動、與驗果於儀/柱日記。
  7. 同疾再現者,立預修之程以本而治之。

得:疾解,系統適性參復規。根因、修動、與驗已記。

敗則:諸單變之改皆敗者,疾或涉多敗並存。盡換耗材與柱,以新標驗,自新基線重建排診。耗材盡換而疾仍存者,升至儀服。

  • 疾已記,含症述、時、範
  • 根因依症因映射表識
  • 排診中每次唯改一變
  • 修以系統適性試驗(n >= 5 注)
  • 諸系統適性參皆復至規內
  • 根因與修動已記於日記
  • 預修之策已定以免再發

  • 多變並改:不可辨真根因。常變一物、試之、再決變他物。
  • 先換柱:柱換貴,且或掩真疾(如漏、流動相誤、注口污)。先盡簡因。
  • 忽儀日記:諸疾多溯近修事、流動相批變、或柱換。常察近何變。
  • 無證罪樣:先注參考標。標亦示疾者,疾在系,非在樣。
  • 以不合溶劑沖柱:勿以純水沖逆相柱(致相塌),或以純水緩衝液沖矽 HILIC 柱(不可逆損)。依廠洗之程。
  • 不記所試:敗之嘗試亦寶。記每變與其果,免重蹈敗解,且建機構之知。

  • interpret-chromatogram -- 解層析數,揭分離疾
  • develop-gc-method -- GC 法之開,於排診需重設法時用之
  • develop-hplc-method -- HPLC 法之開,於排診需重設法時用之
  • validate-analytical-method -- 排診中重大法變之後,或需重驗

GitHub 仓库

pjt222/agent-almanac
路径: i18n/wenyan/skills/troubleshoot-separation
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